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當前(qian)位置：首頁(ye) >產品(pin)中(zhong)心>>繼(ji)電(dian)保護、二次(ci)回路測試(shi)儀器(qi)>SMG6600 六路差(cha)動(dong)保(bao)護矢量分(fen)析(xi)儀(yi)
簡要描述：儀器(qi)精(jing)確(que)測量壹次側電(dian)流(liu)、二(er)次(ci)側電(dian)壓可以分(fen)析(xi)三(san)相不(bu)平(ping)衡(heng)度(du)和六(liu)角(jiao)向(xiang)量圖等 參考標準：GB/T 7676.5-2017 產(chan)品說(shuo)明書檢定證書標準及(ji)規程產(chan)品圖集(ji)視頻拍(pai)攝(she)中(zhong) 同(tong)時(shi)測(ce)量二次(ci)側1至3路交流(liu)電(dian)壓 測量電(dian)網(wang)頻率(lv) 測(ce)量有功(gong)、無功(gong)和視在功(gong)功(gong)率(lv) 註(zhu)：關於(yu)產(chan)品(pin)購(gou)買、技術(shu)維護等服務(wu)，歡(huan)迎致電(dian)!
更新時(shi)間(jian)：2025-12-09瀏覽(lan)次數：972產(chan)品(pin)產地(di)：武漢(han)市廠商(shang)性(xing)質(zhi)：生(sheng)產廠家產品(pin)分(fen)類
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保護回路矢量分(fen)析(xi)儀(yi)是壹種(zhong)可以(yi)同(tong)時(shi)測(ce)量壹次側電(dian)流(liu)、二(er)次(ci)側電(dian)流(liu)和二(er)次(ci)側電(dian)壓既(ji)而做分(fen)析(xi)得出(chu)報(bao)告(gao)的(de)儀(yi)器(qi)，儀(yi)器精(jing)確(que)測量壹次側電(dian)流(liu)、二(er)次(ci)側電(dian)流(liu)和二(er)次(ci)側電(dian)壓可以分(fen)析(xi)三(san)相不(bu)平(ping)衡(heng)度(du)和六(liu)角(jiao)向(xiang)量圖等，並可以輸(shu)出(chu)Word和Excel文(wen)件(jian)，無需(xu)上(shang)位機軟件(jian)，方便(bian)用(yong)戶(hu)後期處(chu)理(li)報(bao)告(gao)。
保(bao)護回路矢量分(fen)析(xi)儀(yi)采(cai)用(yong)高精(jing)度(du)數據(ju)采(cai)集(ji)芯片具(ju)有模擬(ni)量24位ADC精(jing)度(du)，DSP處(chu)理(li)數據(ju)，配(pei)ARM和TFT觸(chu)摸(mo)屏(ping)，顯(xian)示測量數據(ju)直(zhi)觀方便(bian)操(cao)作(zuo)。
產品別稱(cheng)：六路差(cha)動(dong)保(bao)護矢量測試(shi)儀、六(liu)路差(cha)動(dong)保(bao)護矢量檢測(ce)儀、六(liu)路差(cha)動(dong)保(bao)護矢量測量儀、保(bao)護回路矢量分(fen)析(xi)儀(yi)
| 類型 | 範(fan)圍(wei) | 單(dan)位(wei) | 誤(wu)差(cha) | 分(fen)辨(bian)率(lv) |
| 電(dian)壓 | 1～500 | V | 0.3%×量程 | 0.01V |
| 壹次側電(dian)流(liu) | 0.1～5 | A | 0.3%×量程 | 0.0001A |
| 二(er)次側電(dian)流(liu) | 0.001～10 | A | 0.3%×量程 | 0.0001A |
| 有功(gong)功(gong)率(lv) | 0.001～5k | W | 0.3%×量程 | 0.1W |
| 無功(gong)功(gong)率(lv) | 0.001～5k | VAR | 0.3%×量程 | 0.1VAR |
| 視在功(gong)率(lv) | 0.001～5k | VA | 0.3%×量程 | 0.1VA |
| 頻率(lv) | 45～65 | Hz | 0.1%×量程 | 0.01Hz |
| 相位(wei) | 0～360 | ° | ±1° | 0.1° |
1.產(chan)品外(wai)觀(guan)以(yi)實(shi)際產品(pin)為(wei)準，技(ji)術(shu)參(can)數與(yu)型號(hao)如(ru)有變動，恕(shu)不(bu)另行通(tong)知(zhi)。如(ru)有盜(dao)用(yong)或(huo)復(fu)印(yin)行為(wei)，將(jiang)追究(jiu)法(fa)律(lv)責任。
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地(di)址(zhi)：湖北省武漢(han)市東(dong)湖新技(ji)術(shu)開(kai)發(fa)區高新五路84號光(guang)谷光(guang)機(ji)電(dian)產業園(yuan)6棟